ساخت دستگاه نانولیتوگرافی با امکان الگودهی در حجم بالا

تهران – ایرنا - دستگاه لیتوگرافی جدیدی به بازار آمده است که با استفاده از آن می توان الگوهای میکرو و نانومقیاس ایجاد کرد .





به گزارش ستاد ویژه توسعه نانو ، مزیت این دستگاه در قدرت تفکیک بالا، حجم بالای الگودهی و عدم آلودگی سطح توسط ماسک است.

این دستگاه جدید توسط گروه صنعتی ای وی جی (EVG) ساخته شده است. از این دستگاه می توان برای الگودهی در ساختار ال ای دی ها استفاده کرد. مزیت این روش آن است که حجم تولید با آن بسیار بالا و در حد مقیاس صنعتی است.

فناوری به کار رفته در این دستگاه به شکلی است که می توان الگوهایی از چند میکرون تا 200 نانومتر روی سطح ایجاد کرد،

هرمان والتل از مدیران گروه صنعتی ای وی جی در این مورد گفت : این دستگاه ابزاری مفید برای مشتریان در حوزه اپتیک، ال ای دی و فتونیک است و با استفاده از این دستگاه می توان الگوهای تک بعدی نظیر خط و فضا، الگوهای دو بعدی نظیر شبکه های شش وجهی و مربعی ایجاد کرد.